日本第一台、EUV 設備 12 月中旬送抵，Rapidus 要用
- 騰云機械工業
- 2024年11月18日
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這篇報導介紹了日本半導體公司Rapidus計劃在2024年12月開始生產使用極紫外光（EUV）技術的半導體芯片，並加速其先進製程的發展。Rapidus是由日本主要科技公司和政府合作成立的企業，目的是提升日本在全球半導體產業中的競爭力，尤其是在高階芯片的製造上。
報導指出，Rapidus將採用EUV技術來製造5奈米或更先進製程的芯片，這對提高芯片性能和降低功耗至關重要。EUV技術是一種高端的製程技術，能夠在更小的空間內精確地刻印出更複雜的電路，這是目前先進製程中不可或缺的技術之一。
Rapidus的這一計劃不僅展示了日本在半導體領域的雄心，也代表了該國希望擺脫對外國半導體供應商的依賴，提升國內的製造能力。報導還提到，Rapidus的EUV技術將使用來自ASML的設備，這是目前全球唯一能提供EUV光刻機的廠商。預計隨著生產能力的提升，Rapidus將對全球半導體市場產生重要影響。
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