曾經叫板台積電！三星二代 3 奈米製程技術良率僅有 20%
- 騰云機械工業
- 2024年11月13日
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這篇報導提到三星（Samsung）第二代**3奈米製程技術**的良率僅為**20%**，遠低於預期。報導指出，儘管三星在推動先進製程技術方面有很大投入，但其第二代3奈米製程的生產效率仍面臨挑戰。良率低意味著大量生產的芯片存在缺陷，這不僅會增加生產成本，還可能影響產品的品質和可靠性。
三星第二代3奈米製程採用了**GAA（Gate-All-Around）技術**，這是比傳統FinFET技術更先進的一種晶體管架構，旨在提升晶片效能並降低功耗。然而，這項新技術的實現難度較高，導致良率未能達到理想水平。
報導指出，三星面臨的挑戰不僅來自技術本身，還有來自競爭對手台積電的壓力。台積電在3奈米製程領域的良率較高，且市場需求強勁，這使得三星的競爭壓力倍增。為了提高良率，三星可能需要加大在技術改進和製程優化方面的投資。
總結來說，這篇報導強調了三星在第二代3奈米製程技術上的生產困難，並指出其對公司未來業績和市場競爭力可能帶來的挑戰。
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