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從三星與 SK 海力士調整 EUV 策略,看出兩家公司經營處境

  • 騰云機械工業
  • 1月1日
  • 讀畢需時 1 分鐘

三星與SK海力士正在調整極紫外光(EUV)技術的使用策略,以應對半導體市場的快速變化和技術挑戰。文章指出,隨著EUV成為先進製程的核心技術,如何最佳化其應用以提高良率和降低成本,已成為業界關注的焦點。


三星目前專注於將EUV技術應用於更小節點的量產,例如3奈米和2奈米製程,同時努力克服設備供應限制和技術瓶頸。透過引入更高效的光罩設計和製程技術,三星希望提升產品的競爭力,進一步鞏固其市場領先地位。


另一方面,SK海力士則著重於成熟製程和高效能記憶體的EUV技術應用,尤其是在DRAM製造中的導入。SK海力士計畫逐步擴大EUV的使用範圍,確保在成本與技術之間取得平衡,以應對未來市場需求。


文章強調,隨著全球半導體市場需求多樣化,EUV技術的創新與應用策略調整將成為韓國企業保持競爭力的關鍵。同時,供應鏈合作與技術突破也將在未來發展中扮演重要角色。




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